激光椭偏仪

项目

技术指标

仪器型号

EM13 LD/635 (或其它选定波长)

激光波长

635 nm (或其它选定波长，高稳定半导体激光器)

膜厚测量重复性（1）

0.5nm (对于平面Si基底上100nm的SiO2膜层)

折射率测量重复性（1）

5x10-3 (对于平面Si基底上100nm的SiO2膜层)

单次测量时间

与测量设置相关，典型3s

最大的膜层范围

透明薄膜可达1000nm

吸收薄膜则与材料性质相关

光学结构

PSCA（Δ在0°或180°附近时也具有极高的准确度）

激光光束直径

2mm

入射角度

40°-90°可手动调节，步进5°

样品方位调整

Z轴高度调节：±6.5mm

二维俯仰调节：±4°

样品对准：光学自准直和显微对准系统

样品台尺寸

平面样品直径可达Φ170mm

最大外形尺寸

887 x 332 x 552mm (入射角为90º时)

仪器重量（净重）

25Kg

选配件

水平XY轴调节平移台，真空吸附泵

软件(ETEM)

* 中英文界面可选

* 多个预设项目供快捷操作使用

* 单角度测量/多角度测量操作和数据拟合

* 方便的数据显示、编辑和输出

* 丰富的模型和材料数据库支持